第2【事業の状況】

1【事業等のリスク】

当第3四半期累計期間において、新たな事業等のリスクの発生、または、前事業年度の有価証券報告書に記載した事業等のリスクについての重要な変更はありません。

なお、新型コロナウイルス感染症の感染拡大による事業への影響については、今後も注視してまいります。

 

2【経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析】

文中の将来に関する事項は、当四半期会計期間の末日現在において判断したものであります。

なお、第1四半期会計期間より、「収益認識に関する会計基準」(企業会計基準第29号 令和2年3月31日。以下「収益認識会計基準」という。)等を適用しております。経営成績の状況における前年同期との比較、及び財政状態の分析における前事業年度末との比較については、当該会計基準等を適用する前の前会計年度の数値を用いて比較しております。

 

(1) 経営成績の状況

当第3四半期累計期間における世界経済は、先進国を中心とした新型コロナウイルスワクチン接種の進展と積極的な経済対策に支えられて力強い回復が見られたものの、急回復した需要の増加に供給が十分に追いつかない状態となり、世界的な部材不足や物流の目詰まりといった供給制約の問題が発生いたしました。更にウクライナ情勢を受けた資源価格の高騰等、依然として先行きは不透明な状況が続いております。

半導体等電子部品業界におきましては、当社の関わる化合物半導体及び電子部品製造装置の販売マーケットにおいて5G(第5世代移動通信システム)の立ち上がりを背景にしたスマートフォン向けや自動車向けセンサーなどの電子部品分野、あるいはMEMS(Micro Electro Mechanical Systems=微小電気機械素子)といった先端分野での研究開発投資が幅広い企業で進み、本格生産への移行が着実に進んでおります。加えて、新しい生活様式の浸透によるオンライン化が急速に進んでいることにより、半導体等電子部品製造装置の需要は拡大しております。

このような状況の下、当社ではオプトエレクトロニクス分野では通信用レーザーや光導波路用途、電子部品・MEMS分野では高周波デバイス、パワーデバイス、量子デバイス、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor=相補性金属酸化膜半導体)センサー用途、シリコン分野では欠陥解析用途、表示デバイス分野ではVRディスプレイ用途、その他分野では、医療・バイオテクノロジー用途向けの製造装置の販売実績がありました。また、新規事業(ヘルスケア事業)の創出に向けた技術開発への取り組みや、水蒸気を用いたプラズマ処理装置であるAqua Plasma(アクアプラズマ)洗浄装置の拡販による新たな事業領域の拡大に注力いたしました。

その結果、当第3四半期累計期間における業績は、売上高が4,268百万円(前年同期比21.4%増)、営業利益は759百万円(前年同期比84.7%増)、経常利益は839百万円(前年同期比87.0%増)、四半期純利益は584百万円(前年同期比81.2%増)となりました。

 

主な品目別の売上高は、次のとおりであります。なお、当社は半導体等電子部品製造装置の製造及び販売事業の単一セグメントであるためセグメント毎の記載はしておりません。

(CVD装置)

オプトエレクトロニクス分野や電子部品分野、シリコン分野の研究開発向けの販売が伸び、売上高は815百万円(前年同期比125.2%増)となりました。

(エッチング装置)

シリコン分野の欠陥解析用途の販売は伸びましたが、電子部品分野やオプトエレクトロニクス分野の大型の生産機の出荷を第4四半期に控え、売上高は1,752百万円(前年同期比4.2%減)となりました。

(洗浄装置)

オプトエレクトロニクス分野、実装・表面処理分野、表示デバイス分野などで幅広い用途への販売があり、拡販に注力しているアクアプラズマも寄与しましたが、大型機が伸びず、売上高は312百万円(前年同期比31.1%減)となりました。

(その他)

既存装置のメンテナンスや部品販売、装置の移設・改造などの需要拡大により、売上高は1,387百万円(前年同期比59.2%増)となりました。

 

 

(2) 財政状態の分析

(流動資産)

当第3四半期会計期間末における流動資産の残高は、8,279百万円で前事業年度末に比べ565百万円増加いたしました。売掛金及び契約資産が868百万円減少した一方、棚卸資産が771百万円、現金及び預金が561百万円増加したのが主な要因であります。

(固定資産)

当第3四半期会計期間末における固定資産の残高は、4,605百万円で前事業年度末に比べ250百万円増加いたしました。現研究開発センター隣接地の取得により土地が221百万円、繰延税金資産が68百万円増加したのが主な要因であります。

(流動負債)

当第3四半期会計期間末における流動負債の残高は、2,282百万円で前事業年度末に比べ460百万円増加いたしました。未払法人税等が53百万円減少した一方、収益認識会計基準等の適用に伴い契約負債が431百万円増加したのが主な要因であります。

(固定負債)

当第3四半期会計期間末における固定負債の残高は、1,007百万円で前事業年度末に比べ168百万円増加いたしました。長期借入金が153百万円増加したのが主な要因であります。

(純資産)

当第3四半期会計期間末における純資産の残高は、9,596百万円で前事業年度末に比べ186百万円増加いたしました。繰越利益剰余金が306百万円減少した一方、別途積立金が500百万円増加したのが主な要因であります。自己資本比率は74.5%と前事業年度末に比べ3.5ポイント低下いたしました。

 

(3) 経営方針・経営戦略等

当第3四半期累計期間において、当社が定めている経営方針・経営戦略等について重要な変更はありません。

 

(4) 優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題

当第3四半期累計期間において、当社が優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題について重要な変更はありません。

 

(5) 研究開発活動

当第3四半期累計期間における研究開発費の金額は、190百万円であります。

なお、当第3四半期累計期間において、当社の研究開発活動に重要な変更はありません。

 

(6) 経営成績に重要な影響を与える要因

当第3四半期累計期間において、経営成績に重要な影響を与える要因について重要な変更はありません。

 

3【経営上の重要な契約等】

当第3四半期会計期間において、経営上の重要な契約等の決定又は締結等はありません。