当社グループの設備投資に対する方針は、半導体製造装置及び計測機器の両セグメントにおいて、将来に向けての事業拡大と競争の激化に対処するため、生産能力の拡充及び生産の合理化・省力化を図ることを目的としています。
当連結会計年度の設備投資の総額は
(1) 半導体製造装置
当事業分野の設備投資は、市況及び顧客ニーズへの迅速な対応並びに製造技術の強化を目的として実施するものです。
当連結会計年度における主な設備投資の内容は、生産能力向上に向けた当社グループ内での、名古屋工場建設1,882百万円、韓国デモセンター用地取得1,684百万円等であり、その総額は
(2) 計測機器
当事業分野の設備投資は、効率的かつフレキシブルな生産ラインの構築とサービスビジネス拡大を目的として実施するものです。
当連結会計年度における主な設備投資の内容は、当社における受託評価用充放電試験システム596百万円や平面度校正検査装置90百万円等であり、その総額は
2025年３月31日現在
(注) 現在休止中の設備はありません。
2025年３月31日現在
(注) 現在休止中の設備はありません。
2025年３月31日現在
(注) １．現在休止中の設備はありません。
２．上記金額には消費税等は含まれていません。
(注) １．上記計画の所要資金は自己資金及び借入金でまかなう予定です。
２．完成後の能力増加に関しては数量的に算定することが困難なため記載を省略しています。
３．上記金額には消費税等は含まれていません。
経常的な設備更新のための除却等を除き、重要な設備の除却等の計画はありません。