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回次 |
第25期 |
第26期 |
第27期 |
第28期 |
第29期 |
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決算年月 |
2022年3月 |
2023年3月 |
2024年3月 |
2025年3月 |
2026年3月 |
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売上高 |
(百万円) |
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経常利益 |
(百万円) |
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親会社株主に帰属する当期純利益 |
(百万円) |
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包括利益 |
(百万円) |
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純資産額 |
(百万円) |
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総資産額 |
(百万円) |
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1株当たり純資産額 |
(円) |
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1株当たり当期純利益 |
(円) |
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潜在株式調整後1株当たり当期純利益 |
(円) |
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自己資本比率 |
(%) |
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自己資本利益率 |
(%) |
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株価収益率 |
(倍) |
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営業活動によるキャッシュ・フロー |
(百万円) |
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△ |
△ |
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投資活動によるキャッシュ・フロー |
(百万円) |
△ |
△ |
△ |
△ |
△ |
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財務活動によるキャッシュ・フロー |
(百万円) |
△ |
|
|
△ |
△ |
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現金及び現金同等物の期末残高 |
(百万円) |
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従業員数 |
(人) |
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(外、平均臨時雇用者数) |
( |
( |
( |
( |
( |
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(注)1.第25期の潜在株式調整後1株当たり当期純利益については、希薄化効果を有する潜在株式が存在しないため記載しておりません。また、第26期、第27期、第28期及び第29期の潜在株式調整後1株当たり当期純利益については、潜在株式が存在しないため記載しておりません。
2. 1株当たり当期純利益及び1株当たり純資産額の算定において、信託財産として株式会社日本カストディ銀行(信託口)が保有する当社株式を自己株式として処理していることから、期中平均株式数は当該株式を控除対象の自己株式に含めて算出しております。
3.「法人税、住民税及び事業税等に関する会計基準」(企業会計基準第27号 2022年10月28日。以下「2022年改正会計基準」という。)等を第28期の期首から適用しており、第27期に係る主要な経営指標等については、当該会計基準等を遡って適用した後の指標等となっております。なお、2022年改正会計基準については第65-2項(2)項ただし書きに定める経過的な取扱いを適用しております。この結果、第28期以降に係る主要な経営指標等については、当該会計基準等を適用した後の指標等となっております。
|
回次 |
第25期 |
第26期 |
第27期 |
第28期 |
第29期 |
|
|
決算年月 |
2022年3月 |
2023年3月 |
2024年3月 |
2025年3月 |
2026年3月 |
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売上高 |
(百万円) |
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経常利益 |
(百万円) |
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当期純利益又は当期純損失(△) |
(百万円) |
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△ |
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資本金 |
(百万円) |
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発行済株式総数 |
(株) |
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純資産額 |
(百万円) |
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総資産額 |
(百万円) |
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1株当たり純資産額 |
(円) |
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1株当たり配当額 |
(円) |
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(うち1株当たり中間配当額) |
( |
( |
( |
( |
( |
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1株当たり当期純利益又は1株当たり当期純損失(△) |
(円) |
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△ |
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潜在株式調整後1株当たり当期純利益 |
(円) |
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自己資本比率 |
(%) |
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自己資本利益率 |
(%) |
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△ |
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株価収益率 |
(倍) |
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配当性向 |
(%) |
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△ |
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従業員数 |
(人) |
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|
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(外、平均臨時雇用者数) |
( |
( |
( |
( |
( |
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株主総利回り |
(%) |
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(比較指標:TOPIX) |
(%) |
( |
( |
( |
( |
( |
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最高株価 |
(円) |
6,320 |
3,365 |
3,170 |
3,330 |
4,895 |
|
最低株価 |
(円) |
2,944 |
2,329 |
1,820 |
2,084 |
1,682 |
(注)1.最高株価及び最低株価は、2022年4月3日以前については東京証券取引所(市場第一部)におけるものであり、2022年4月4日以降については東京証券取引所プライム市場におけるものであります。
2.第25期の潜在株式調整後1株当たり当期純利益については、希薄化効果を有する潜在株式が存在しないため記載しておりません。また、第26期、第28期及び第29期の潜在株式調整後1株当たり当期純利益については、潜在株式が存在しないため記載しておりません。第27期の潜在株式調整後1株当たり当期純利益については、1株当たり当期純損失であり、また、潜在株式が存在しないため記載しておりません。
3.第27期の株価収益率については、1株当たり当期純損失であるため記載しておりません。
4. 1株当たり当期純利益又は1株当たり当期純損失及び1株当たり純資産額の算定において、信託財産として株式会社日本カストディ銀行(信託口)が保有する当社株式を自己株式として処理していることから、期中平均株式数は当該株式を控除対象の自己株式に含めて算出しております。
5.「法人税、住民税及び事業税等に関する会計基準」(企業会計基準第27号 2022年10月28日。以下「2022年改正会計基準」という。)等を第28期の期首から適用しており、第27期に係る主要な経営指標等については、当該会計基準等を遡って適用した後の指標等となっております。なお、2022年改正会計基準については第20-3項ただし書きに定める経過的な取扱いを適用しております。この結果、第28期以降に係る主要な経営指標等については、当該会計基準等を適用した後の指標等となっております。
6.第29期の1株当たり配当額80.00円のうち、期末配当額40.00円については、2026年6月25日開催予定の定時株主総会の決議事項となっております。
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年月 |
沿革 |
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1997年10月 |
株式会社ブイ・テクノロジーとして神奈川県厚木市に設立(資本金30百万円) |
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2000年4月 |
当社製品の販売を目的として韓国にV Technology Korea Co.,Ltd.設立(現・連結子会社) |
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2000年12月 |
東京証券取引所マザーズに株式を上場(資本金2,009百万円) |
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2001年5月 |
北米における研究開発及び製造拠点としてV Technology North America Inc.及びV Technology USA Inc.を設立(連結子会社) |
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2001年11月 |
台湾に営業拠点としてV-TEC Co.,Ltd.(2023年11月、VN Systems Taiwan Co.,Ltd.を存続会社とする吸収合併を行い、V Technology Taiwan Co.,Ltd.に社名変更)を設立(現・連結子会社) |
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2002年2月 |
北米における連結子会社2社を売却 |
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2004年10月 |
本社を現在地(横浜市保土ヶ谷区)に移転 |
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2005年6月
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液晶ディスプレイの基板製造装置ビジネスへの参入を目的として株式会社ブイ・イメージング・テクノロジーを横浜市保土ヶ谷区に設立 |
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2010年1月 |
株式会社ブイ・イメージング・テクノロジーを吸収合併 |
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2011年2月 2011年6月 |
東京証券取引所市場第一部に指定 中国に営業拠点としてShanghai V Technology Co., Ltd.(2015年12月、Shanghai VN Systems Co., Ltd.に商号変更)を設立 |
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2013年10月 |
オムロンレーザーフロント株式会社及び連結子会社よりFPD・半導体業界向リペア装置事業の事業譲受 |
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2014年12月 |
中国に営業拠点としてKunshan V Technology Co., Ltd.を設立(現・連結子会社) |
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2015年6月 |
株式会社VNシステムズの株式取得 |
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2015年12月 |
VETON TECH LIMITEDの株式取得(現・連結子会社) |
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2016年4月 |
オー・エイチ・ティー株式会社の株式取得(現・連結子会社) |
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2017年2月 |
株式会社VNシステムズを吸収合併 |
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2017年12月 |
株式会社ブイ・イー・ティーを設立(現・連結子会社) |
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2018年4月 |
Lumiotec株式会社の株式取得 |
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2019年8月 |
株式会社ナノシステムソリューションズの株式取得(現・連結子会社) |
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2020年4月 |
V-Tech Shining Color Technology (Kunshan) Co.,Ltd.を設立(現・連結子会社) |
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2021年1月 |
Kunshan V Technology Co.,Ltd.(2025年8月、Shanghai V Technology Co., Ltd.に商号変更)がShanghai VN Systems Co., Ltd.を吸収合併 |
|
2021年1月 |
リソテックジャパン株式会社の株式取得(現・連結子会社) |
|
2021年6月 |
Imec Agricultural Technology (Suzhou) Co., Ltd.を設立(現・連結子会社) |
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2022年2月 |
株式会社アイテックの株式取得(現・連結子会社) |
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2022年4月 |
東京証券取引所の市場区分の見直しにより、東京証券取引所の市場第一部からプライム市場に移行 |
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2022年8月 |
YRPイノベーションセンター(神奈川県横須賀市)を開設 |
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2023年1月 |
ジャパンクリエイト株式会社の株式取得(現・連結子会社) |
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2023年4月 |
株式会社LE-TECHNOLOGYを設立(現・連結子会社) |
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2025年6月 |
監査役会設置会社から監査等委員会設置会社に移行 |
当社グループは、当社、子会社計22社及び関連会社4社により構成され、半導体・フォトマスク装置事業、及びFPD装置事業(液晶ディスプレイ(LCD)、有機ELディスプレイ(OLED)等)を主たる業務としております。
当社グループの事業内容及び当社と関係会社の当該事業に係る位置付けは次のとおりであります。
半導体・フォトマスク装置事業・・・半導体製造工程における製造装置、検査装置及びフォトマスク用装置等の開発、設計、製造、販売、関連サービスの提供を行っております。
FPD装置事業・・・・・・・・・・FPD製造工程における製造装置、検査装置等の開発、設計、製造、販売、関連サービス及びOLED用蒸着マスクをはじめとする部材等の提供を行っております。
その他事業・・・・・・・・・・・・IT事業、農業事業等を行っております。
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名称 |
住所 |
資本金 |
主要な事業内容 |
議決権の所有割合 (%) |
関係内容 |
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(連結子会社) 株式会社ナノシステムソリューションズ |
沖縄県うるま市 |
90百万円 |
半導体製造装置、検査装置、光学関連機器及び画像解析機器の開発・製造・販売 |
100.0 |
当社製品製造販売受託 役員の兼務無し |
|
(連結子会社) オー・エイチ・ティー株式会社 (注)2 |
広島県福山市 |
420百万円 |
各種電気検査装置の企画・開発・製造・販売 |
100.0 |
当社製品製造販売受託 役員の兼務無し 債務保証有り |
|
(連結子会社) 株式会社LE-TECHNOLOGY (注)2 |
東京都千代田区 |
490百万円 |
ダイレクト露光装置の開発・製造・販売 |
80.0 |
当社製品製造販売受託 役員の兼務有り 資金援助有り |
|
(連結子会社) VETON TECH LIMITED |
Hong Kong, China |
2,795千 人民元 |
中国における当社製品の受注営業及び新規事業開拓 |
100.0 |
当社製品販売受託 役員の兼務有り |
|
(連結子会社) Shanghai V Technology Co., Ltd. (注)1 |
Minhang District,Shanghai,China |
11,074千 人民元 |
検査関連装置の製造・販売(仲介)及びメンテナンス |
100.0 |
当社製品製造販売受託 役員の兼務有り 債務保証有り |
|
(連結子会社) リソテックジャパン株式会社 |
埼玉県川口市 |
40百万円 |
微細加工プロセス用評価、製造装置の開発・製造・販売 |
100.0 |
当社製品製造販売受託 役員の兼務無し |
|
(連結子会社) ジャパンクリエイト株式会社 |
埼玉県所沢市 |
30百万円 |
半導体製造装置の開発・製造・販売 |
100.0 |
当社製品製造販売受託 役員の兼務無し 資金援助有り |
|
その他15社 |
|
|
|
|
|
|
(持分法適用関連会社) 株式会社日本生産技術研究所 |
神奈川県厚木市 |
80百万円 |
半導体・太陽光パネル製造装置の製造及び販売 |
25.0 |
役員の兼務無し |
|
(持分法適用関連会社) Xianyang CHVT New Display Technology Co., Ltd. |
Xianyang, China |
185,000千 人民元 |
新型ディスプレイ、有機EL照明の製造・販売 |
32.4 |
役員の兼務無し |
|
(持分法適用関連会社) ネクスファイ・テクノロジー株式会社 |
大阪府吹田市 |
90百万円 |
高電圧機器の製造・販売 |
27.7 |
役員の兼務無し |
|
(持分法適用関連会社) 株式会社EORIC |
東京都千代田区 |
208百万円 |
光学技術に関する開発・設計・製図事業 |
25.3 |
役員の兼務無し 資金援助有り |
(注)1.2025年8月に、Kunshan V Technology Co., Ltd.は、Shanghai V Technology Co., Ltd.に社名変更いたしました。
2.特定子会社に該当しております。