当事業年度におきましては、主として、上野原第二工場新棟建設・既存棟増築、製品出荷用容器及び製造装置等を中心に1,379,516千円の設備投資を実施いたしました。
なお、当事業年度において重要な設備の除却、売却等はありません。
また、当社の事業は、半導体等製造用高純度化学化合物事業並びにこれらの付帯業務の単一セグメントであるため、セグメント別の記載を省略しております。
平成30年1月31日現在
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事業所名 |
部門の名称 |
設備の内容 |
帳簿価額(千円) |
従業員数 |
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建物及び |
機械装置 |
土地 |
工具、器 |
リース |
合計 |
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本社・工場 (山梨県 |
総務部・ |
管理業務施 |
1,064,237 |
735,312 |
608,641 (15,576) |
465,865 |
3,046 |
2,877,103 |
33 〔―〕 |
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製造部・ |
半導体用材 |
92 〔17〕 |
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関西営業所 (大阪府 |
営業部 |
営業所施設 |
― |
― |
― (―) |
643 |
― |
643 |
1 〔 1〕 |
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台湾支店 (台湾新竹 |
台湾支店 |
販売業務施 |
1,145 |
― |
― (―) |
0 |
― |
1,145 |
8 〔―〕 |
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韓国事務所 (大韓民国 |
営業部 |
情報収集業 |
― |
― |
― (―) |
― |
― |
― |
― 〔―〕 |
(注) 1 現在休止中の主要な設備はありません。
2 上記の帳簿価額には、建設仮勘定及び消費税等は含まれておりません。
3 従業員数欄の〔外書〕は、臨時従業員の年間平均雇用人員であります。
4 関西営業所、台湾支店、韓国事務所は賃借しております。年間賃借料は5,917千円であります。
5 当社の事業は、半導体等製造用高純度化学化合物事業並びにこれらの付帯業務の単一セグメントであるため、セグメント別の記載を省略しております。
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会社名 |
事業所名 |
部門の名称 |
設備の内容 |
投資予定額 |
資金調達 |
着手年月 |
完了予定 |
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総額 |
既支払額 |
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提出会社 |
本社・工場 |
製造部等 |
半導体用材料生産設備等 |
1,400,000 |
556,145 |
自己資金及び借入金 |
平成29年 |
平成30年 |
(注) 1 上記の金額に消費税等は含まれておりません。
2 当社の事業は、半導体等製造用高純度化学化合物事業並びにこれらの付帯業務の単一セグメントであるため、セグメント別の記載を省略しております。
該当事項はありません。