第3 【設備の状況】

1 【設備投資等の概要】

 当連結会計年度の設備投資につきましては、中期経営計画の達成に向け、先端開発を加速させるため、半導体製造装置事業の高成長が期待できる重点開発分野を中心に、評価用機械装置や研究開発用機械装置等の設備投資を実施いたしました。

 主な内訳としては、当社25億円、東京エレクトロン宮城㈱36億円(うち物流倉庫の前払金10億円)、東京エレクトロン山梨㈱30億円、東京エレクトロン東北㈱24億円、東京エレクトロン九州㈱22億円であります。

 これらの結果、当連結会計年度の設備投資額は206億円となりました。

 なお、生産・販売能力に重要な影響を及ぼす設備の除却、売却はありません。

 

2 【主要な設備の状況】

(1) 提出会社

平成29年3月31日現在

 

事業所名

(所在地)

セグメントの名称

設備の内容

帳簿価額(百万円)

従業員数

(人)

建物

及び構築物

機械装置

及び運搬具

土地

(面積千㎡)

その他(注)

合計

本社

(東京都港区)

半導体製造装置

FPD製造装置

その他

全社共通

事務所

280

28

73

382

768

府中テクノロジーセンター

(東京都府中市)

半導体製造装置

FPD製造装置

その他

全社共通

事務所

119

0

37

157

329

山梨事業所

(山梨県韮崎市)

半導体製造装置

FPD製造装置

その他

全社共通

事務所

研究所

工場用地等

2,414

718

3,178

(232)

1,243

7,555

314

東北地区

(岩手県奥州市)

半導体製造装置

全社共通

工場用地等

0

1,882

(133)

6

1,890

1

大和地区

(宮城県黒川郡大和町)

半導体製造装置

全社共通

工場用地等

5

5,753

(290)

2

5,761

松島地区

(宮城県宮城郡松島町)

半導体製造装置

全社共通

工場用地等

1,231

(153)

0

1,231

合志地区

(熊本県合志市)

半導体製造装置

FPD製造装置

全社共通

工場用地等

3

242

3,158

(154)

225

3,629

17

大津地区

(熊本県菊池郡大津町)

半導体製造装置

FPD製造装置

全社共通

工場用地等

963

(79)

0

963

佐賀地区

(佐賀県鳥栖市)

半導体製造装置

FPD製造装置

全社共通

工場用地等

1,185

(107)

1,185

(注) 帳簿価額のうち「その他」は、「工具、器具及び備品」、「リース資産」及び「建設仮勘定」の合計であります。

 

(2) 国内子会社

平成29年3月31日現在

 

会社名

事業所名

(所在地)

セグメント

の名称

設備の

内容

帳簿価額(百万円)

従業員数

(人)

建物

及び構築物

機械装置

及び運搬具

土地

(面積千㎡)

その他(注)

合計

東京エレクトロン

山梨㈱

本社

(山梨県韮崎市)

半導体製造装置

FPD製造装置

その他

全社共通

工場

4,460

1,197

8

(1)

382

6,048

686

山梨事業所(穂坂地区)

(山梨県韮崎市)

半導体製造装置

全社共通

工場

610

1,415

767

2,793

412

東京エレクトロン

九州㈱

本社

(熊本県合志市)

半導体製造装置

FPD製造装置

全社共通

工場

8,871

2,371

246

(46)

1,809

13,298

1,772

大津事業所

(熊本県菊池郡大津町)

半導体製造装置

FPD製造装置

全社共通

工場

1,475

230

14

1,720

東京エレクトロン

東北㈱

本社

(岩手県奥州市)

半導体製造装置

全社共通

工場

2,872

1,024

102

(5)

611

4,610

723

山梨事業所

(山梨県韮崎市)

半導体製造装置

全社共通

工場

22

1,197

145

1,365

111

東京エレクトロン

宮城㈱

本社他

(宮城県黒川郡大和町他)

半導体製造装置

全社共通

工場

11,623

3,302

2,280

17,205

1,185

(注) 帳簿価額のうち「その他」は、「工具、器具及び備品」、「リース資産」及び「建設仮勘定」の合計であります。

 

(3) 在外子会社

平成29年3月31日現在

 

会社名

事業所名

(所在地)

セグメント

の名称

設備の

内容

帳簿価額(百万円)

従業員数

(人)

建物

及び構築物

機械装置

及び運搬具

土地

(面積千㎡)

その他(注)

合計

Tokyo Electron

U.S. Holdings,Inc.

本社

(Austin, Texas,

U.S.A.)

半導体製造装置

全社共通

事務所

倉庫

2,517

248

773

(431)

718

4,259

151

Tokyo Electron

America,Inc.

本社他

(Austin, Texas,

U.S.A.他)

半導体製造装置

全社共通

事務所

倉庫

2

3,713

42

3,757

1,099

Tokyo Electron

Korea Ltd.

本社他

(韓国 京畿道

華城市他)

半導体製造装置

FPD製造装置

全社共通

事務所

倉庫

研究所

2,233

604

2,379

(21)

898

6,116

761

Tokyo Electron

Taiwan Ltd.

本社他

(台湾 新竹市他)

半導体製造装置

FPD製造装置

その他

全社共通

事務所

倉庫

研究所

1,433

421

168

2,023

523

Tokyo Electron

(Kunshan) Ltd.

本社

(中国 江蘇省

昆山市)

FPD製造装置

全社共通

工場

2,058

614

105

2,779

65

TEL FSI,Inc.

本社他

(Chaska, Minnesota,

U.S.A.他)

半導体製造装置

全社共通

工場

1,146

80

389

(128)

185

1,802

134

(注) 帳簿価額のうち「その他」は、「工具、器具及び備品」、「リース資産」及び「建設仮勘定」の合計であります。

 

3 【設備の新設、除却等の計画】

 当連結会計年度末現在における重要な設備の新設、改修、除却、売却等の計画は、以下のとおりであります。

 

(1) 新設

 

会社名

事業所名

所在地

セグメントの名称

設備の内容

投資予定金額

(百万円)

資金調達方法

着手及び完了予定

完成後の増加能力

総額

既支払額

着手

完了

提出会社

山梨事業所他

山梨県

韮崎市他

半導体製造装置

FPD製造装置

その他

全社共通

開発・評価用機械装置他

6,788

自己資金

平成29年

4月

平成30年

5月

東京エレクトロン宮城㈱

本社他

宮城県

黒川郡

大和町他

半導体製造装置

全社共通

プロセス評価用
機械装置他

9,019

自己資金

平成29年

4月

平成30年

3月

物流倉庫

3,342

1,044

自己資金

平成29年

3月

平成29年

12月

東京エレクトロン山梨㈱

本社他

山梨県

韮崎市

半導体製造装置

FPD製造装置

その他

全社共通

プロセス評価用
機械装置他

5,543

自己資金

平成29年

4月

平成30年

8月

東京エレクトロン九州㈱

本社他

熊本県

合志市他

半導体製造装置

FPD製造装置

全社共通

プロセス評価用
機械装置他

9,645

自己資金

平成29年

4月

平成30年

5月

Tokyo Electron Korea Ltd.

本社他

韓国

京畿道

華城市他

半導体製造装置

FPD製造装置

全社共通

事務所、デモ・評価用機械装置他

2,795

318

自己資金

平成28年

11月

平成30年

3月

事務所用土地

3,276

327

自己資金

平成28年

10月

平成30年

10月

(注) 上記の金額には、消費税等は含まれておりません。

 

(2) 改修

 

会社名

事業所名

所在地

セグメントの名称

設備の内容

投資予定金額

(百万円)

資金調達方法

着手及び完了予定

完成後の増加能力

総額

既支払額

着手

完了

提出会社

山梨事業所

山梨県

韮崎市

半導体製造装置

FPD製造装置

その他

全社共通

開発・評価用

設備

3,260

12

自己資金

平成29年

5月

平成29年

11月

 

東京エレクトロン九州㈱

本社

 

熊本県

合志市

半導体製造装置

FPD製造装置

全社共通

プロセス評価用設備

2,980

自己資金

平成29年

5月

平成29年

12月

 

(3) 除却

 特記すべき事項はありません。

 

(4) 売却

 特記すべき事項はありません。