| 1. 특허명칭 | 가스공급유닛 |
| 2. 특허 주요내용 |
본 특허는 대면적 기판에 대한 각종 처리공정을 수행하는 기판처리장치에 있어서 처리모드에 따라 기판처리장치의 내부로 각종 가스를 공급하는 경우에 가스를 균일하게 기판처리장치의 내부에서 분산시킬 수 있는 가스공급유닛에 대한 것임.
본 특허에 따른 가스공급유닛은 공급되는 가스 종류에 따라 챔버 내부로 가스가 분사되는 영역을 유동적으로 변경할 수 있도록 구성되어, 증착되는 박막의 두께 균일성을 확보하는 동시에 챔버의 세정효율도 향상시킬 수 있음. |
| 3. 특허권자 | (주)테스 |
| 4. 특허취득일자 | 2020-05-07 |
| 5. 특허 활용계획 | 장비 제조시 특허기술 적용을 통한 제품경쟁력 강화 |
| 6. 확인일자 | 2020-05-07 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 |
1.출원번호(국내): 10-2018-0111176
2.상기 특허취득일자 및 확인일자는 특허 수수료 납부일자 기준임. |