| 1. 특허명칭 | 플라즈마 식각장치 |
| 2. 특허 주요내용 |
플라즈마 장치의 내부에 균일한 유도결합 플라즈마를 발생시키기 위한 플라즈마 식각 장치에 관한 것입니다. 플라즈마 식각 장치는 부채 형상으로 이루어진 안테나의 길이, 폭, 높이를 조절하여 유도결합 플라즈마를 균일하게 발생시켜 시료 크기에 상관없이 균일한 식각 및 증착을 할 수 있는 기술입니다. |
| 3. 특허권자 | (주)엘에이티 |
| 4. 특허취득일자 | 2020-10-19 |
| 5. 특허 활용계획 | 기존보다 큰 대면적 시료를 식각 또는 증착 할 수 있어 당사의 제품경쟁력을 강화할 예정. |
| 6. 확인일자 | 2020-10-19 |
| 7. 기타 투자판단과 관련한 중요사항 |
- 특허출원번호 : 제10-2019-0104405호
- 상기 특허의 취득을 위한 수수료는 2020년 10월 19일에 납부 완료하였습니다. - 특허 취득일자는 특허 등록료 납부일 기준입니다. |