| 1. 특허명칭 | [국내특허]웨이퍼 표면의 오염물 샘플링 노즐 및 샘플링 방법 |
| 2. 특허 주요내용 | 본 발명은 웨이퍼 표면의 오염물질 모니터링은 반도체 디바이스 생산공정에 있어 매우 중요한 과제로 대두되고 있고 제품의 불량발생 원인 파악의 일환으로 웨이퍼 표면의 오염물 샘플링을 위한 장치와 방법에 관한 것이다. |
| 3. 특허권자 | (주)위드텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2021-03-02 |
| 5. 특허 활용계획 | 당사 웨이퍼 표면의 오염물질 모니터링 자동화 설비에 활용. |
| 6. 확인일자 | 2021-03-02 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 | - 본 특허는 국내 특허임. - 특허출원번호 : 10-2020-0128679 - 확인일자는 특허수수료 납입일 기준입니다. |