| 1. 특허명칭 | 전극의 레이저 노칭 공정용 패턴 지그 및 이를 구비한 레이저 노칭 시스템 |
| 2. 특허 주요내용 | 이차전지의 전극을 연속적으로 이송하면서 전극의 가장자리에 레이저를 지면(地面)에 대해 수평하게 조사하여 소정의 패턴으로 전극탭을 가공하는 레이저 노칭 시스템 |
| 3. 특허권자 | (주)디에이테크놀로지 |
| 4. 특허취득일자 | 2020-09-17 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 발명을 통해 공정 중에 발생하는 스크랩과 분진을 하측으로 낙하시켜 공정 수행과 동시에 제거할 수 있어 스크랩 혹은 미세한 이물질들이 지그에 축적되지 않아 고정력을 저하시키지 않으며, 전극 필름 상에 레이저가 외란(disturbance)되어 전극탭의 형상이 정확하게 절삭되지 않는 문제를 해결할 수 있다. 또한 좌우로 분할된 드럼의 변부가 지그재그의 요철 구조로 되어 전극 면을 지지하는 구조로 전극 필름의 중심부가 변형되거나 자국이 생기지 않도록 안정적으로 지지하여 생산성을 향상 시킬 수 있을 것으로 기대된다. |
| 6. 확인일자 | 2020-09-17 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 |
- 상기 특허는 국내 특허입니다.
(출원번호:10-2020-0094704호) - 상기 특허취득일자는 특허등록료 납부일입니다. |