| 1. 특허명칭 | 2차 전지용 연속식 고속 셀 스택 적층장치 |
| 2. 특허 주요내용 | 전극의 픽업 및 공급 이송을 위한 승강 구동을 캠 구동방식으로 제어하므로, 작업의 불필요한 지연현상을 방지하면서 스택의 제조공정에 대한 택트 타임(tact time)을 단축하고, 이에 따른 제품의 생산성을 향상 시킬수 있는 효과 |
| 3. 특허권자 | 주식회사 파인텍 |
| 4. 특허취득일자 | 2020-10-07 |
| 5. 특허 활용계획 | 본 특허를 제품에 적용함으로써 당사의 제품경쟁력을 강화할 예정임 |
| 6. 확인일자 | 2020-10-07 |
| 7. 기타 투자판단에 참고할 사항 |
상기 특허는 국내특허임
출원번호 : 10-2019-0066567 특허취득일자는 등록료 납부일임 |