| 1. 제목 | 특허권 취득 | |
| 2. 주요내용 |
1. 특허명칭
다면체 올리고머 실세스퀴옥산(POSS)을 이용한 MQ-T 실리콘 레진의 합성법 2. 특허 주요내용 본 발명은 실리콘 MQ 레진과 탄화수소화합물이 결합된 다면체 올리고머 실세스퀴옥산(POSS)을 이용하여 전신반응을 통해 얻어지는 MQ-T실리콘 레진에 관한 것으로, 본 발명에 의한 레진은 자체적으로는 고온에서의 안정성, 자외선에 의한 산화 안정성, 통기성 및 접착성을 가지며, 화장품에 적용 시 묻어나지 않는 특성, 화장품에 사용되는 오일과의 상용성, 밀착성, 펴짐성, 유연성 및 지속성이 우수한 특성을 가짐 3. 특허권자 코스맥스 주식회사 4. 특허취득일자 2020-01-28 5. 특허 활용계획 향후 생산될 제품에 사용될 예정임 |
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| 3. 이사회결의일(결정일) 또는 사실확인일 | 2020-01-28 | |
| - 사외이사 참석여부 | 참석(명) | - |
| 불참(명) | - | |
| - 감사(사외이사가 아닌 감사위원) 참석여부 | - | |
| 4. 기타 투자판단과 관련한 중요사항 | ||
| 상기 3. 이사회결의일(결정일) 또는 사실확인일은 특허법인으로부터의 특허수수료 납부 확인증 접수일임. | ||
| ※ 관련공시 | - | |
| 해당사항 없음 |